職務内容 富士フイルムの半導体材料事業は、長年培ってきたフォトレジストを代表としたパターニング技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在ではパターニングから半導体材料/電子材料全般への拡大を図っています。
本職務では、半導体製造プロセス用洗浄液(特にCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリー)の薬液処方開発および市場導入、量産品の課題解決を担っていただきます。



【担当職務】
半導体製造プロセス用洗浄液事業において、薬液開発、国内および海外の幅広い顧客対応(顧客ニーズ把握～商品企画～顧客への導入～量産品立ち上げ)を担っていただきます。

＜職務内容＞

・薬液開発(※海外関係会社と協業)

・国内外の顧客、顧客候補とのコンタクトを通じた顧客ニーズのリサーチ

・顧客ニーズに対応した評価系探索・構築

・顧客への新製品導入活動

・量産品立ち上げ



【仕事の魅力】
半導体製造プロセスにおいて洗浄工程は欠かせぬ工程であり、歩留まり向上のためのキープロセスとなります。前工程・後工程関わらず、半導体の微細化・市場の成長に伴って洗浄薬液の課題やニーズが増えており、今後も技術革新が期待されています。洗浄工程は直前の工程により洗浄対象が変化するため、顧客との議論・情報収集が重要であり、その情報に基づく、評価系構築～薬液開発～量産立ち上げ、という一連の研究開発プロセス全てに関わることができます。
また、CMP(化学機械研磨)工程においては、研磨液開発チームとCMP後洗浄液開発チームがグローバルな共同開発体制を構築し、Total solutionとしてCMP関連材料(スラリー＋洗浄液)を開発しているため、日常的に海外との協業が行われており、アメリカ・台湾への海外駐在のチャンスもあります。





＜富士フイルムについては以下をご参照ください＞

■富士フイルムグループ紹介動画(※音声が再生されます)



■富士フイルム グループパーパス(※音声が再生されます)

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